粒子系统类
ParticleSystem 是一个包含任何数量 ParticleEmitters 的完整粒子特效。在一个系统中应用多个发射器后,设计师可以创建出精美细致的粒子特效,并存放于单个系统中。使用级联完成创建后,即可将 ParticleSystem 置于关卡中或创建于脚本中。
ParticleSystem 类包含下列公共变量:
属性 | 描述 | ||||||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
ParticleSystem |
|||||||||||||||||
SystemUpdateMode |
此列举说明系统更新其发射器所使用的方法。有两种模式可用:
|
||||||||||||||||
UpdateTime_FPS | 在 EPSUM_FixedTime 中运算时所使用的时间步长。 | ||||||||||||||||
WarmupTime | 粒子系统启动时所需的准备时间。它可使发射器从开始便全力发射。但运行性能将受到影响,建议不要大量使用,尤其是数值较高时。对关卡最初加载时便已开始运行的系统(如烟柱或环境特效)而言使用效果较好。 | ||||||||||||||||
Warmup Tick Rate | 在系统准备期间控制每个标记的时间步长。增加该数值可提升性能,减少该数值可提高精度。数值 0 表示默认标记时间。 | ||||||||||||||||
Orient ZAxis Toward Camera | 如为 true, ParticleSystem 的局部 Z 轴将保持对准相机。 | ||||||||||||||||
SecondsBeforeInactive | 如这段时间内(以秒为单位)没有对粒子系统进行渲染,其将进入不活动状态,不再接受标记。输入 0 值,防止系统被强制变为不活动状态。 | ||||||||||||||||
Thumbnail |
|||||||||||||||||
ThumbnailWarmup | 在 Use Real-Time Thumbnail 为勾选状态下,捕捉缩略图渲染之前粒子系统所需的准备时间。 | ||||||||||||||||
Use Real-Time Thumbnail |
如为 true,将使用默认相机位置自动捕捉 ParticleSystem 资源在 Content Browser 中显示的缩略图,并反映出 ParticleSystem 的当前设置和外观,而不使用保存的缩略图。 使用实时缩略图渲染会降低 Content Browser.的运行性能。 |
||||||||||||||||
LOD |
|||||||||||||||||
LOD Distance Check Time | 确定系统执行一次距离检测的时间频率(以秒为单位),以明确使用的 LOD 级别。(仅在 LODMethod 设为 Automatic 时使用)。 | ||||||||||||||||
LOD Method |
此列举说明系统选择适当 LOD 级别时所使用的方法。有两种方法可用:
|
||||||||||||||||
LODDistances |
确定使用 LOD 级别的距离阵列。(仅在 LODMethod 设为 Automatic 时使用)。这些数值将提供选择 LOD 级别的推荐最小距离。例如,3 种 LOD 级别的粒子系统:
|
||||||||||||||||
LODSettings | 一种结构阵列,决定每个 LOD 使用的特定设置。当前使用指定 LOD 时,唯一的设置 Lit 用于控制 ParticleSystem 是否接受光照。 | ||||||||||||||||
Bounds |
|||||||||||||||||
Use Fixed Relative Bounding Box | 如为 true,代码将使用 FixedRelativeBoundingBox 作为粒子系统的边界。 | ||||||||||||||||
Fixed Relative Bounding Box |
允许用户为粒子系统设置边界框。移除每帧边界框更新所产生的性能消耗,代价是特效不可见时执行后台渲染/更新,或特效不在画面中时不执行渲染/更新。除非发射器有非常广的尺寸范围,通常推荐使用固定边界框,以确保运行性能稳定。 右键单击 级联工具栏上的“Toggle Bounds”按钮,用级联动态边界框当前所用值填充对话框,您可从基础开始将其调整为所需的值。 |
||||||||||||||||
Delay |
|||||||||||||||||
Delay | 执行 ActivateSystem() 时 ParticleSystem 在激活前的等待时间(以秒数计)。同时,当 Use Delay Range 为 true 时,该值为随机延迟值的范围上限。 | ||||||||||||||||
Delay Low | 当 Use Delay Range 为 true 时,该值为随机延迟值的范围下限。 | ||||||||||||||||
Use Delay Range | 如为 true,Delay Low 和 Delay 之间的随机值被选为实际延迟值使用。 | ||||||||||||||||
MacroUV |
|||||||||||||||||
Macro UV Position | 相对于 ParticleSystem 的局部空间位置作为中心点,生成 ParticleMacroUV 材质表现的 UV 纹理坐标。 | ||||||||||||||||
Macro UV Radius | 它是决定着 Macro UV Position 距离的全局空间半径,在此位置上生成的 ParticleMacroUV 材质表现纹理坐标将开始铺制。 | ||||||||||||||||
Occlusion |
|||||||||||||||||
Occlusion Bounds Method |
计算 ParticleSystem 遮挡时所用方法。
|
||||||||||||||||
Custom Occlusion Bounds | 使用 EPSOBM_CustomBounds Occlusion Bounds Method 时,用于计算遮挡的边界。 |